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技術(shù)文章

用于半導(dǎo)體制造過(guò)程的多組分密度計(jì)介紹

用于半導(dǎo)體制造過(guò)程的多組分密度計(jì)介紹


產(chǎn)品概覽

該型號(hào)在保留 FUD-1 Model-53 的可維護(hù)性和高精度在線測(cè)量等優(yōu)點(diǎn)的同時(shí),采用了用于半導(dǎo)體制造過(guò)程的小型單元型變送器。

多組分密度計(jì)的特點(diǎn)

3 個(gè)組件中的 2 個(gè)組件密度計(jì)側(cè)可以實(shí)時(shí)進(jìn)行

  • 配備模擬DC 4至20mA(2系統(tǒng))和數(shù)字RS232C作為標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備

  • 標(biāo)配測(cè)量誤差輸出和報(bào)警輸出

  • 標(biāo)配自診斷功能和錯(cuò)誤信息顯示

  • 緊湊輕便的單元式變送器可直接安裝在線路上

  • 由于使用 PFA 的接液部件的質(zhì)量和小輸出設(shè)計(jì),對(duì)化學(xué)溶液沒(méi)有影響。


優(yōu)點(diǎn)

  • 可進(jìn)行高精度連續(xù)測(cè)量

  • 免維護(hù),無(wú)需定期調(diào)整和校準(zhǔn)

  • 安裝方便,安裝過(guò)程中無(wú)需進(jìn)行各種調(diào)整

  • 通過(guò)實(shí)時(shí)輸出輕松反饋過(guò)程


  • CMP工藝中的CMP漿料和氧化劑濃度控制等。

  • 清洗過(guò)程中清洗液濃度控制(HF+HNO3、HF+H2SiF6等)

  • 蝕刻工藝中蝕刻液濃度控制(TMAH+抗蝕劑、TMAH+Si等)





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