渦流法主要用于非接觸式,可測(cè)量1E-3(1m)至1E + 4(10k)Ω/□電阻范圍。
它可用于半導(dǎo)體,化合物半導(dǎo)體,液晶和新型碳基材料等廣泛領(lǐng)域的測(cè)量。
渦電流測(cè)量系統(tǒng)使用電磁感應(yīng)產(chǎn)生的渦電流來(lái)測(cè)量電阻。
非接觸式測(cè)量探頭單元的探頭芯(磁性材料)在兩側(cè)(上下)以一定的間隙排列。
<非接觸式測(cè)量探頭單元的結(jié)構(gòu)>
●在渦流法中,按照以下步驟進(jìn)行測(cè)量。
(1)當(dāng)在探針芯之間施加高頻以產(chǎn)生磁通量并且插入樣本時(shí),樣本中產(chǎn)生渦流。
(2)此時(shí),(1)渦電流流過(guò)樣品→(2)樣品中消耗了電流,發(fā)生了功率損耗。
→③電路中的電流成比例降低。檢測(cè)該減小的電流值。
(3)由于檢測(cè)到的電流值與樣品的電阻成反比關(guān)系,請(qǐng)使用此值。
座電阻或電阻是從電流值和座電阻的校準(zhǔn)曲線(計(jì)算公式)得出的。
?。?計(jì)算電阻時(shí)需要樣品厚度信息)
產(chǎn)品名稱:EC-80
測(cè)量目標(biāo)
半導(dǎo)體/太陽(yáng)能電池材料相關(guān)(硅,多晶硅,SiC等)
新材料/功能材料相關(guān)(碳納米管,DLC,石墨烯,銀納米線等)
導(dǎo)電薄膜相關(guān)(金屬,ITO等)
硅基外延,離子與
半導(dǎo)體相關(guān)的注入樣品化合物(GaAs Epi,GaN Epi,InP,Ga等)
其他(*請(qǐng)與我們聯(lián)系)
測(cè)量尺寸
?8英寸,或?156x156mm
測(cè)量范圍
[電阻] 1m至200Ω·cm
(*所有探頭類型的總范圍/厚度500um)
[抗頁(yè)電阻] 10m至3kΩ / sq
(*所有探頭類型的總范圍)
*有關(guān)每種探頭類型的測(cè)量范圍,請(qǐng)參閱以下內(nèi)容。
(1)低:0.01至0.5Ω/□(0.001至0.05Ω-cm)
(2)中:0.5至10Ω/□(0.05至0.5Ω-cm)
(3 ))高:10至1000Ω/□(0.5至60Ω-??cm)
(4)S-高:1000至3000Ω/□(60至200Ω-cm)
日本napson電阻測(cè)量?jī)xEC-80
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